第40章 技术助力，初见成效 (第2/3页)
看到楚冰的样子时，心中微微一疼。那个在商业峰会上冷艳高贵、气场全开的 “芯片女神”，此刻竟然如此疲惫不堪，像一朵即将凋零的雪莲。
“楚总，深夜打扰，实在抱歉。” 苏宇的声音温和，带着恰到好处的歉意。
“苏总客气了。” 楚冰勉强挤出一丝笑容，“不知道苏总深夜来访，有何贵干？”
“我听说贵公司的‘冰芯二号’遇到了技术瓶颈。” 苏宇开门见山，目光真诚地看着楚冰，“正好我对量子材料和光刻技术略有研究，也许能帮上一点忙。”
陈建国在一旁冷笑道：“苏总，不是我们不信你。只是芯片研发不是儿戏，我们团队三百多个博士，研究了三年都没解决的问题，你一个外人怎么可能解决？”
苏宇没有理会陈建国的嘲讽，只是看着楚冰，认真地说道：“楚总，我知道你现在肯定不相信我。这样吧，给我十分钟时间，我给你讲一下我的解决方案。如果听完之后，你觉得不可行，我立刻就走，绝不再打扰。”
楚冰看着苏宇的眼睛。
他的眼神清澈、坚定，没有丝毫的虚伪和欺骗。
不知为何，楚冰的心中竟然生出了一丝莫名的信任。
“好，我给你十分钟。” 楚冰点了点头。
苏宇笑了笑，从随身的公文包里拿出一台笔记本电脑，连接到会议室的大屏幕上。
“首先，我们来分析一下问题的根源。” 苏宇指着屏幕上的芯片结构图，语速不快，却条理清晰，“你们现在使用的是传统的化学放大型光刻胶，在5nm 工艺下，光刻胶的厚度只有30nm。在曝光过程中，光子的散射效应会导致光刻胶边缘模糊，从而产生漏电现象。”
陈建国不屑地说道：“这我们当然知道！问题是怎么解决！寰球顶尖光刻机厂商艾斯摩尔都没有完美的解决方案！”
“艾斯摩尔没有，不代表我们没有。” 苏宇淡淡地说道，“我的解决方案是，放弃传统的化学放大型光刻胶，改用我研发的‘量子点光刻胶’。”
他一边说，一边在屏幕上画出了一个复杂的分子结构图。
“这种量子点光刻胶，以单分散的硒化镉量子点为核心，表面修饰有光敏基团。在曝光时，量子点会产生局域表面等离子体共振效应，将光子能量集中在纳米级范围内，完全消除了散射效应。同时，量子点的尺寸均匀性可以控制在0.1nm以内，光刻精度可以达到1nm以下。”
苏宇的语速越来越快，从量子点的合成方法，到光刻工艺的参数优化，再到显影液的配方调整，每一个技术细节都讲得非常透彻。
楚冰和陈建国的脸色，从最初的怀疑，逐渐变成了惊讶，最后变成了震惊。
他们都是芯片领域的顶尖专家，自然能听出苏宇说的这些话的含金量。
这个方案，不仅逻辑严谨，而且完全可行！
尤其是那个 “量子点光刻胶” 的概念，简直是天才般的创新！他们之前怎么就没想到呢？
“这…… 这太不可思议了！” 陈建国激动得浑身发抖，“如果这个方案真的可行，我们不仅能解决5nm的问题，甚至能直接冲击2nm工艺！”
楚冰也激动得站了起来，身体微微颤抖。她看着苏宇，眼中闪烁着难以置信的光芒：“苏总，你…… 你是怎么想到这个方案的？”
苏宇笑了笑，说道：“我平时喜欢研究一些前沿物理，正好在量子点领域有一些积累。昨天听说了你们的问题，回去想了一夜，就设计出了这个方案。”
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